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国家知识产权局信息数据显现，上海华力集成电路制作有限公司请求一项名为“电容耦合等离子体刻蚀机台及改进面内均匀性的办法”的专利，公开号CN121687821A，请求日期为2025年11月。
专利摘要显现，本发明供应一种电容耦合等离子体刻蚀机台及改进面内均匀性的办法。该刻蚀机台包含下电极和上电极，其中上电极被划分为多个可独立移动的区域，并由多个驱动组织别离驱动。该办法有：供应该刻蚀机台；依据晶圆的待改进面内均匀性散布，独登时调整上电极多个区域中至少一个区域的笔直方位；经过调整改动该区域与晶圆间的部分空隙，以调理部分等离子体散布并对晶圆进行刻蚀。本发明经过对上电极分区并完成各区域的独立升降，可以准确、部分地调控等离子体散布，有用处理了现存技能难以校对的非同心圆均匀性问题，显着提升了刻蚀面内均匀性、工艺窗口和产品良率。
天眼查资料显现，上海华力集成电路制作有限公司，成立于2016年，坐落上海市，是一家以从事软件和信息技能服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。经过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制作有限公司参加招投标项目2082次，专利信息2771条，此外企业还具有行政许可399个。
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